GO的还原方法主要有两类：高温热处理和低温化学还原。高温热处理法通常要求在1000℃以上，惰性或还原气氛中进行，还原本钱较高，而且要求承载石墨烯及其薄膜的基片能够耐受高温，因此限制了该方法的广泛应用。低温化学还原可以在低于100℃的条件下进行，易于实现GO材料的低本钱还原。但是，已报道的化学还原方法中效果最好的肼类还原剂（肼、二甲基肼等）和金属氢化物类还原剂（硼氢化钠、氢化锂铝等）的还原效果仍不理想，而且肼类物质不仅本钱高，还是剧毒物质，大量使用会对环境造成严重污染。此外，采用这两类物质还原GO薄膜时，会造成薄膜膨胀或破碎，无法得到高电导性的石墨烯薄膜。因此迫切需要开发高效、低本钱、无污染且适用于GO薄膜还原的低温化学还原方法。
洁净棚内的气流是左右洁净室性能的重要因素，一般洁净室的气流速度是选0.25~0.5m/s之间，此气流速度属微风区域，易受人、机器等的动作而干扰趋于混乱、虽提高风速可抑制此一扰乱之影响而保持洁净度、但因风速的提高，将影响运转成本的增加，所以应在满足要求的洁净度水准之时，能以最适当的风速供应，以达到适当的风速供应以达到经济性效果。
另一方面欲达到洁净室洁净度之稳定效果，均一气流之保持亦为一重要因素，均一气流若无法保持，表示风速有异，特别是在壁面，气流会延着壁面发生涡流作用，此时要实现高洁净度事实上很困难。
垂直层流式方向要保持均一气流必须：(a)吹出面的风速不可有速度上的差异；(b)地板回风板吸入面之风速不可有速度上的差异。速度过低或过高(0.2m/s，0.7m/s)均有涡流之现象发生，而0.5m/s之速度，气流则较均一，一般洁净室，其风速均取在0.25~0.5m/s之间。
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